祝贺邓惠文在Journal of physical D上发表了《The role of different types of dopants in 1.3 μm InAs/GaAs quantum-dot lasers》

本文首先描述了n型(硅)掺杂对生长在砷化镓衬底上的高密度砷化铟量子点的影响。之后采取最合适的掺杂方法对砷化铟量子点激光器进行n型和p型掺杂,比较了n型,p型和本征砷化铟量子点激光器的各个性能。研究表明n型掺杂能有效的减少激光器的阈值电流密度,并且还会压缩激光的近场分布光斑大小,但是当激光器的光学谐振腔减小时,会更容易从基态发光变为激发态发光。而p型掺杂的激光器有更好的高温表现,但是会增加激光器的阈值电流。

文章链接:https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6463/ac55c4/meta